例如电力系统所用的纯水，要求各杂质含量低达到“微克/升”级。在纯水的制作中，水质标准所规定的各项指标应该根据电子(微电子)元器件(或材料)的生产工艺而定(如普遍认为造成电路性能破坏的颗粒物质的尺寸为其线宽的1/5-1/10)，但由于微电子技术的复杂性和影响产品质量的因素繁多，至今尚无一份由工艺试验得到的适用于某种电路生产的完整的水质标准。
随着电子级水标准的不断修订，而且高纯水分析领域的许多突破和发展，新的仪器和新分析方法的不断应用都为制纯水工艺的发展创造了条件。
在高纯水的生产过程中，水中的阴、阳离子可用电渗析法、反渗透法及离子交换树脂技术等去除；水中的颗粒一般可用超过滤、膜过滤等技术去除；水中的细菌，目前国内多采用加药或紫外灯照射或臭氧杀菌的方法去除；水中的TOC则一般用活性炭、反渗透处理。在高纯水应用的领域中，水的纯度直接关系到器件的性能、可靠性、阈值电压，导致低击穿，产生缺陷，还影响材料的少子寿命，因此高纯水要求具有相当高的纯度和精度。
极为接近高纯度的水，即除了氢离子与氧离子，几乎没有任何其他电解质存在的水。
在制造处理过程后能尽可能将溶在水中或在水中散播的各种杂质除去，包含像是 有机物、细菌、尘埃、氧化物 等任何物质。
根据半导体产业的发展，随着制程的开发，使得晶圆线路更加细致，所使用的清洗用水，也需要更加提升。
为了介于以往的纯水名称，故命名为超纯水。 电阻率约达到18.2MΩ-cm，几乎不能导电，依据电子行业超纯水标准，还有很多其他的指标要求。
超纯水主要使用在晶圆洗净，将经过蚀刻之晶圆进行洗净，去除晶圆表面残留氢氟酸等溶液。
经由多重过滤，离子交换，除气，逆渗透，紫外线，超滤，奈米滤，离子吸附过滤所产生超纯水。
